メトロームの分析装置でおこなわれた 2,200 件以上の最先端アプリケーションをご覧いただけます。
高度な半導体デバイスおよびオプトエレクトロニクスを製造するためには、厳格な品質基準を満たすことが求められており、その実現には信頼性が高く、かつ高精度な分析装置が必要とされます。
半導体デバイスの製造には、微量汚染物を除去するための高い品質基準が求められます。これらの汚染物は、ウェーハ欠陥の主な原因の一つとされています。半導体の製造効率を最適化し、歩留まりを向上させるためには、水の純度やエッチング液中の酸、メッキ液中の金属含有量、さらにはイオン性不純物のモニタリングが極めて重要です。
微量分析は、分析装置および分析手法に特有の課題があります。これは、対象成分（分析対象物）の濃度が極めて低いために、マトリックス効果が通常よりも強く影響することが原因です。メトロームは、濃縮処理やマトリックス除去といった前処理技術を統合した分析ソリューションを提供することで、より高精度な分析を実現しております。
メトロームは、ラボ分析および製造プロセスでの用途のいずれにおいても、最高品質の分析装置を提供しており、浴液組成のモニタリングから不純物の検出に至るまで、精密かつ信頼性の高い分析を実現します。
また、当社の専門知識と高品質なオンサイトサービスにより、半導体製造のサポートおよび更なる効率向上にも貢献いたします。
最新の分析方法を紹介
Automated CVS method development and optimization of multicomponent plating baths
Download this White Paper to learn more about how to optimize CVS methods for the analysis of electroplating copper baths.
お探しの情報が見つかりませんか？
メトロームジャパンへぜひご連絡ください。