La nichelatura chimica offre un'eccellente resistenza all'usura e alla corrosione. La produzione di circuiti stampati inizia con il rivestimento di nichel chimico, tramite il processo ENIG (nichel chimico, oro ad immersione) o ENEPIG (nichel chimico, palladio chimico, oro ad immersione). Il monitoraggio dei livelli di stabilizzante nei bagni di nichelatura chimica è fondamentale per garantire depositi di nichel uniformi e rivestimenti di alta qualità. La concentrazione tipica dello stabilizzatore di antimonio (III) in un bagno di Ni senza elettrolisi è di circa 1 mg/L.
La voltammetria di stripping anodico è uno strumento veloce e robusto per monitorare la concentrazione dello stabilizzante Sb(III) nei campioni di bagni di nichelatura chimica. Questa determinazione viene eseguita su un sensore combinato contenente elettrodi di lavoro, di riferimento e ausiliari integrati su un unico substrato ceramico: scTRACE Gold. Il sensore non necessita di manutenzione approfondita come la lucidatura meccanica. Questo metodo è adatto per sistemi manuali o automatizzati.
Electroless Ni plating bath
Aggiungere acqua, il campione del bagno di nichelatura chimica e l'elettrolita di supporto nel recipiente di misurazione. La determinazione dell'antimonio(III) viene effettuata con l'884 Professional VA (Figura 1) utilizzando i parametri specificati nella Tabella 1. La concentrazione viene determinata mediante due aggiunte di una soluzione di addizione standard di antimonio(III).
scTRACE Gold viene attivato elettrochimicamente prima della prima determinazione.
| Parameter | Setting |
|---|---|
| Mode | DP – Differential Pulse |
| Deposition potential | -0.1 V |
| Deposition time | 30 s |
| Start potential | -0.1 V |
| End potential | 0.2 V |
| Peak potential Sb(III) | 0.06 V |
- scTRACE Gold
Con un tempo di deposizione di 30 s, questo metodo è adatto per la determinazione dell'antimonio(III) in campioni di bagni di nichelatura chimica su un ampio intervallo di concentrazione quando il fattore di diluizione viene adattato.
| Sample | Sb(III) (mg/L) |
|---|---|
| Electroless Ni plating bath containing 1 mg/L Sb(III) | 0.971 |