AB-344
Analisi automatizzata di miscele di acidi di attacco per substrati di silicio con titolazione termometrica
Riassunto
Questo Application Bulletin descrive la determinazione automatizzata di miscele di HNO3, HF e H2SiF6 nell'intervallo di circa 200–600 g/L HNO3, 50–160 g/L HF, e 0–185 g/L H2SiF6 mediante titolazione termometrica. Le miscele di acidi di attacco contenenti HNO3, HF e H2SiF6 provenienti dall'attacco chimico di substrati di silicio possono essere analizzate in una sequenza di due determinazioni. La prima determinazione prevede una titolazione diretta con lo standard c(NaOH) = 2 mol/L, seguita da una titolazione di ritorno con c(HCl) = 2 mol/L. Questa determinazione fornisce il contenuto di H2SiF6 più un valore per la concentrazione combinata (HNO3 + HF). La seconda determinazione consiste in una titolazione con c(Al3+) = 0.5 mol/L per determinare il contenuto di HF. Il contenuto di HNO3 può quindi essere calcolato dai risultati.
Per miscele di HNO3 e HF appena preparate e prive di H2SiF6, possibile utilizzare una sequenza di due titolazioni concatenate. Nella prima titolazione, il contenuto combinato di HNO3 + HF viene determinato con c(NaOH) = 2 mol/L. Questa titolazione viene automaticamente interrotta e viene avviata una seconda titolazione con c(Al3+) = 0.5 mol/L per determinare il contenuto di HF. Il contenuto di HNO3 può quindi essere calcolato dai risultati.