瑞士万通过程分析2060 XRF过程分析仪在能量色散X射线荧光家族中独树一帜。其设计着重于质量和过程控制并考虑到多个采样点和用户友好操作。
- 多达10个在线XRF分析采样点
- 快速分析- 60秒可获得分析结果
- 无损分析从镁到铀(z=12至92)之间的液体样品
- 可集成多种分析技术(XRF与滴定、光度法)在一个分析平台
简单、无损XRF分析仪
X射线荧光(X-ray fluorescence)是一种非破坏性,可应用于各种样品元素的定性和定量分析方法。
XRF是如何工作的呢? 当样品在能量高X射线照射时,会导致原子内层电子跃迁并产生暂时的空位,同时处于不稳定态的原子捕获外层电子迅速填充这些空位。
在此过程中,由跃迁释放的能量以荧光X射线的形式放出,荧光 X 射线能量特征则与样品中存在的每个元素相关,2060 XRF 过程分析仪可通过捕获这些被释放的X射线,确定样品中特定感兴趣元素的浓度。
2060 XRF 过程分析仪的设计易于使用,即使是技术新人也能操作自如并获取靠谱结果。使用我们的XRF分析仪,您可以在无损样品的情况下获得样品准确的成分数据。
一机实现复杂分析
2060 XRF Process Analyzer集成了高分辨率硅漂移探测器(SDD)和Axon™技术。凭借其准确的超低电子噪声,提升了每秒X射线计数(cps),从而带来更快、更准确的结果。
多路同时分析,加快投资回报
另一个显著优点是它能够使用单一仪器对多个样品进行并行分析。在电镀行业,2060 XRF 过程分析仪可以同时分析不同电镀槽液中的多个组件,削减分析耗时,提高生产力。简化的工作流程为公司带来更快的结果和更快的投资回报率。
不错过任何变化——全天候操作
在工厂,过程分析仪在全面监测和控制方面发挥着关键作用,它能有效地降低未察觉问题发生的风险。用手动方法监测异常值(例如,通过实验室XRF分析仪),由于环境变化影响样品特性或样品分析延迟等因素会面临挑战性。不过,随着2060 XRF 过程分析仪等在线分析仪的投入使用,在生产过程中能实时连续采集数据,监测生产过程状况准确又即时。
这种持续监测不仅消除了样品因环境因素而被改变的可能性,而且能够对过程参数的任何偏离快速检测和即时响应。因此,在线过程分析仪是保持生产效率和减少过程控制中出现错误或疏忽风险的不可或缺的工具。
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- 样品预处理
- 软件
样品前处理
瑞士万通设计提供多种样品预处理单元装置,为众多工业过程提供成套的解决方案。
除了分析本身,样品准备、前处理,以及分析仪的安装位置都是在线分析是否能够稳定运行的关键影响因素。我们几乎可以为所有的应用提供整套方案,包括分析仪以及与之配套的样品前处理系统,我们甚至还可以提供分析小屋,配管配线和通讯工作,让分析仪与现场集成无缝连接。
可靠的过程控制
2060 XRF 过程分析仪内置独特的在线自动光谱过程控制分析软件,它适用于各种工业应用高效编程和控制分析仪:
- 简洁图形时间轴形式显示分析仪程序进程
- 可以预设报警程序,监视分析器的当前状态
- 数据支持使用多种通信协议(例如Modbus或Discrete I/O)进行通信
- 在后台,VANTA软件控制数据分析并可访问分析数据。