アプリケーション検索（技術資料）

Determination of chloride and sulfate in the presence of high nitrate concentrations. Optimization of the chromatographic separation by variation of the temperature and eluent composition.

The determination of cyanide is very important not only in electroplating baths and when decontaminating wastewater but, due to its high toxicity, also in water samples in general. Concentrations of 0.05 mg/L CN- can already be lethal for fish.This Bulletin describes the determination of cyanide in samples of different concentrations by potentiometric titration.Chemical reactions:2 CN- + Ag+ → [Ag(CN)2]-[Ag(CN)2]- + Ag+ → 2 AgCN

このApplication Bulletinでは、カール・フィッシャーによる容量水分測定の概要をご覧いただけます。その他に、電極、サンプル、および水標準液の取り扱いについて説明しています。ここで説明される手順およびパラメータはASTM E203に準ずるものです。

本文では、フッ素イオン選択性電極 (F-ISE) を用いた、様々なマトリックス内のフッ化物の測定について説明します。F-ISE はフッ化ランタン単結晶で作られており、幅広いフッ素濃度範囲においてネルンスト効果を示します。本文の第一部には、電極の操作法や手入れに関して、および実際のフッ素測定における注記が記載されています。第二部では、食塩、歯磨き粉、洗口液における、標準添加技術によるフッ化物の直接的な測定について説明しています。

This bulletin contains two parts. The first part gives a short theoretical overview while more details are offered in the Metrohm Monograph Conductometry. The second, practice-oriented part deals with the following subjects:Conductivity measurements in general; Determination of the cell constant; Determination of the temperature coefficient; Conductivity measurement in water samples; TDS – Total Dissolved Solids; Conductometric titrations;

このApplication Bulletinでは、カール・フィッシャーによる電量法水分測定の概要をご覧いただけます。その他に、電極、サンプル、および水標準液の取り扱いについて説明しています。ここで説明される手順およびパラメータはASTM E1064に準ずるものです。

The metals Cd, Co, Cu, Fe, Ni, Pb, and Zn are determined in the sub-ppb range (limit of detection 0.05 µg/L) by means of stripping voltammetry. The DP-ASV method is used for Cd, Cu, Pb, and Zn whereas Co, Ni, and Fe are determined by means of the DP-CSV method (dimethylglyoxime or catechol complexes).Use of the VA Processor and the sample changer allows automatic determination of the above metal ions in one solution. The method has been specially developed for trace analysis in the manufacture of semiconductor chips based on silicon. It can naturally also be employed successfully in environmental analysis.

電気伝導度、pH値、p値およびm値 (アルカリ度)、塩化物含有量、カルシウムおよびマグネシウム硬度、総硬度、ならびにフッ化物含有量などといったか物理的および化学的パラメータの測定は、水質評価において必要不可欠です。この bulletin では、上記のパラメータを、一度の分析実行でいかに測定できるかが説明されています。水質分析においてさらに重要なパラメータは、過マンガン酸塩指数 (PMI) および化学的酸素要求量 (COD) です。そのため、この Bulletin では、EN ISO 8467に準じたPMIの完全自動測定、ならびにDIN 38409-44に準じたCODの測定についても説明しています。

This Bulletin, using practical examples, indicates how the user can achieve optimum pH measurements. As this Bulletin is intended for actual practice, the fundamentals - which can be found in numerous books and publications - are treated only briefly.

This Bulletin describes the simultaneous potentiometric titration of free boric acid and free tetrafluoroboric acid in nickel plating baths. After addition of mannitol, the formed mannitol complexes are titrated with sodium hydroxide solution. The determination is carried out directly in the plating bath sample; nickel and other metal ions do not interfere.

DIN 38406 Part 16 を条件とした標準メソッドでは、飲料水、地下水、地表水、および降水 (雨水など) に含まれるZn、Cd、Pb、Cu、Tl、Ni、およびCoの測定について説明しています。水サンプル中に含まれる有機物質は電圧電流法による測定に強い干渉を与え得るため、過酸化水素を用いたUV分解による前処理が必要となります。この分解により、ブランク値の導入なしですべての有機物質を確実に除去することができます。これらのメソッドはもちろん、例えばシリコンベースの半導体チップの製造における微量分析など、他の物質の微量分析にも応用することができます。Zn、Cd、Pb、Cu、およびTlはアノードストリッピングボルタンメトリー (ASV) を用いてHMDEで測定され、NiおよびCoは吸着ストリッピングボルタンメトリー (AdSV) を用いて測定されます。

Cleanliness is indispensable in electronics production. Ionic contaminations in particular lead to a drastic worsening of the quality of the printed circuit boards. The present Application Note describes the determination of cations on printed circuit board surfaces. The intelligent Partial Loop Injection Technique (MiPT) used for this purpose permits the determination of cations and anions in the same sample. The determination of the anions is described in AN-S-317.

インラインマトリックス除去を伴うインテリジェントなインライン濃縮（MiPCT-ME）は、亜鉛やジエチルアミンなどといった6つの基本陽イオンの微量測定に使用されます。Metrosep C 4 - 250/2.0 のマイクロボアカラムでは、24分で分析が完了します。回収率は95％を超えます。ソフトウェア MagIC Net によって算出される検出限界は、濃縮量が4ｍLの場合、より低いng/Lレベルにまで及びます。

この Application Note では、現像液中のN, Nジエチルヒドロキシルアミン（DEHA）、トリイソプロパノールアミン（TIPA）、陽イオンのカラー現像液成分（Color-Developing component、CDC）の測定について説明しています。分析はMetrosep C - 250/4.0の大容量のカラムにおいて行われ、続いて直接電気伝導度検出が行われます。カラムに強力に遅滞する発色現像液の滞留時間を短縮するため、カラム流量はアミンの溶出後、増大されます。

製薬産業または半導体産業のための超純水の生産には高品質なイオン交換体が必要です。陰イオン交換体物質の純度の検査には、燃焼法イオンクロマトグラフィシステムは不可欠なツールです。

電気装置および電子装置における特定有害物質の使用制限についてのEU指令およびIEC 61249-2-21では、電子機器で用いられる材料に含まれるハロゲンの制限値が定められています。プリント基板に使われる資材中のハロゲン測定は、IEC 61189-2に準拠した燃焼法イオンクロマトグラフィシステムにより、正確かつ迅速に自動化しておこなえます。

過酸化水素は、その用途に応じて様々な純度で用いられます。高純度のH2O2 (電子工業用) では、たとえばトリメチルアミン (TMA) は1 μg/L未満など、非常に低い汚染レベルが求められます。この技術資料では、高濃度のH2O2溶液 (30%) におけるトリメチルアミンの測定について説明しています。分析は、連続陽イオンサプレッション後に電気伝導度検出器を備えたイオンクロマトグラフにマトリックス自動除去 (MiPCT-ME) とインライン自動予備濃縮を用いて測定しています。

高純度の水 (サブμg/L 未満の範囲) における陽イオンの微量分析には、連続サプレッションを備えた陽イオンクロマトグラフィーと、自動予備濃縮テクニック (MiPCT) が必要となります。脱イオン水 (DI) 中の微量陽イオンが測定され、メソッド検出限界 (US EPA に準じた MDL) および検出限界 (LOD = 3 x S/N) が計算されます。MDL および LOD は、6 mL の予備濃縮容量を使用した設定で最も低いng/L範囲で非常に類似しています。

ICによる廃水中の陽イオン分析は、実証済みのメソッドです。制約要因は一般にNa/NH4の分離です。高濃度のナトリウムにより、ピークの重複が原因でアンモニアの測定が不可能となる可能性があります。連続サプレッションおよびドーズイングラジェントを用いることで、Na/NH4分離を改善し、低濃度アンモニウムの測定を可能にします。

過酸化水素中の微量レベルの陽イオンおよびアミンの測定は、グレードの高い半導体用化学薬品の品質測定において重要です。特に、過酸化水素サンプル中で1 ppbまたはそれ未満のトリメチルアミンを要求するメーカーもあります。連続陽イオンサプレッション後に電気伝導度検出を伴うMiPCT-ME*に後続するイオンクロマトグラフィーが適用されます。

銅はほぼ間違いなく、特に半導体産業において科学技術的に最も関連性のある金属の1つでしょう。この産業で用いられる蒸着プロセスは、デュアルダマシンプロセスとして知られ、それは添加物が存在する上で、酸性の第二銅化合物からの銅の電着に作用します。このApplication Noteでは、銅の電着についての調査と、Cu+中間体検出のための Autolab 回転リングディスク電極 (RRDE) 　の使用について説明されています。

Capacitors are electronic components necessary for the success of the electronics industry. They have also become essential components of both electric and hybrid vehicles. Electrochemical tests, such as potentiostatic cyclic voltammetry, are used to check the performance of capacitors. VIONIC powered by INTELLO can perform both staircase and linear cyclic voltammetries (CV). This Application Note gives a comparison between the linear and the staircase potentiostatic cyclic voltammetries and highlights the necessity of using the linear CV to best study the performance of capacitors.

電気化学インピーダンス分光法 (EIS) は、電気化学的システムの特性解析のための強力な技術です。近年、EISは材料の特性解析の分野において広範囲に及ぶ用途を見出してきました。これは日常的に、コーティング、バッテリー、燃料電池、および腐食現象の特性解析に用いられます。このApplication Noteでは、EIS測定の原理についてご覧いただけます。

このApplication Noteでは、電気化学電池における様々な接続のタイプや装置のセッティングなど、EISを実施するための準備について説明されています。

Here, the most common circuit elements for EIS are introduced which may be assembled in different configurations to obtain equivalent circuits used for data analysis.

Explore how to construct simple and complex equivalent circuit models for fitting EIS data in this Application Note. Nyquist plots are shown for each example.

等価回路モデルに関するApplication Note AN-EIS-004では、等価回路モデルの構築に用いられる様々な回路素子の概要が示されています。分析中のシステムに適したモデルが確認された後、データ分析における次のステップはモデルパラメータの推定です。これは、モデルのデータへの非線形回帰によって行われます。多くのインピーダンスシステムは、データフィッティングプログラムを伴います。このApplication Noteでは、データをフィットさせるのにNOVAを用いた方法が紹介されています。

このApplication Noteでは、電気化学インピーダンス測定中の個々の周波数のための生のタイムドメインデータの記録の長所について説明されています。

電気化学インピーダンス分光法 (EIS) は、電極内部液インターフェースにおいて生じるプロセスに関する情報を提供する強力な技術です。EISによって集められたデータは、適正な電気等価回路でモデル化されます。当てはめ手順により、数学関数が実験データの一定の差の内に収まるまで、パラメータの値が変更されます。このApplication Noteでは、許容できる初期パラメータを獲得し、正確な当てはめを実施するためのいくつかの提案が述べられています。

This Application Note presents the Mott-Schottky measurement, an extension of electrochemical impedance spectroscopy (EIS), on a popular semiconducting material.

Determination of mixtures of phosphoric, nitric, and acetic acids used in etching aluminum in the manufacture of semiconductor devices.

Automated determination of the H2SiF6 and HF contents of industrial grade hexafluorosilicic acid.

酸エッチング溶液には、エッチング速度が高いためフッ化水素酸 (HF) が含まれることがよくあります。 この技術資料では、電位差滴定装置で使用する通常のガラス電極では測定が難しい、シリコンエッチング溶液中のフッ化物の測定を温度滴定法でおこなっている例を紹介しています。

Determination of the total acids concentration in mixtures of nitric-hydrofluoric acid intended for etching silicon substrates.

Two separate titration sequences are required to analyze the mixture:- titration of the HF content with Al(NO3)3 (the «elpasolite» reaction)- titration of the H2SO4 with BaCl2 followed by titration with NaOH to determine the «total acids» contentThe HF, H2SO4, and «total acids» contents are converted to a HNO3 equivalent, with the HNO3 content found by subtracting the HF and H2SO4 from the «total acids» content.

Thermometric titration is used to determine hydrofluoric acid and nitric acid in etching baths containing ethanol and acetonitrile. Two endpoints appear on the titration curve that are used individually for the quantification of the respective acid.

Following the addition of caustic soda, hexafluorosilic acid can be determined through back titration of excess hydroxide with hydrochloric acid. Hydrofluoric acid (hydrogen fluoride) is determined by precipitation with aluminum in the presence of sodium and potassium ions. Nitric acid is determined by subtracting the equivalence concentrations of hexafluorosilic acid and hydrofluoric acid from the total acid concentration.

Nitric acid, phosphoric acid, and acetic acid are easily determined in etching baths using thermometric titration (TET). Compared to potentiometric titration, TET is faster and more convenient. Analysis is complete in less than two minutes.

シアン化物は一部の産業プロセスにて用いられますが、慎重に取り扱わなければ廃水を汚染する恐れがあります。酸性もしくは中性環境下では、このシアン化物に汚染された廃水は毒性の強いシアン化水素ガスを形成することがあります。さらに、シアン化塩は環境を汚染し、地下水系へと侵入することもあります。そのため、流出水中のシアン化物含有量をモニタリングすることは不可欠です。シアン化物は、シアン化物イオン選択性電極を用いて簡単に測定できます。このApplication Noteでは、APHA Method 4500-CN および ASTM D2036 に準じたシアン化物分析のメソッドを紹介します。

Determination of anions in solder paste after alcoholic extraction using anion chromatography with direct conductivity detection.

Determination of silica (as silicate) in pure water with preconcentration using anion chromatography with direct conductivity detection (without any post-column reaction).

Determination of borate and silicate in ultrapure water using anion chromatography with direct conductivity detection.

In the semiconductor industry, thermoset resins combined with fabric or paper are used as an intermediate layer between substrates of printed circuit boards (PCB). These polymer-based sheets (laminates) are chosen depending on thickness and their thermomechanical and electrical characteristics. Near infrared spectroscopy (NIRS) is a fast, non-destructive and easy-to-use analytical method which allows the measurement of multiple key quality parameters in less than a minute. The following Application Note describes the determination of the transition time of PCB laminates by NIRS, a parameter correlating with the thickness, glass transition temperature, and tensile strength of the material.

Determination of citrate, ascorbate, and acetate in photographic developer solution using ion-exclusion chromatography with suppressed conductivity detection.

廃水中のシアン化物は、健康要件のために測定される重要なパラメータです。遊離シアン、弱結合および強結合錯体シアンは識別することができます。廃水における直接的な測定はマトリックス自体を鑑みると現実的ではありません。それゆえ総シアンは、全てのシアン化物を錯体から放出するサンプル酸性化、それに続くアルカリ溶液中でのシアン化物の蒸留ならびに吸収の後に測定されます。アンペロメトリック検出は金作用電極を用いて行われます。この電極は銀電極よりも汚染の問題が少なく長期安定性がより優れているために適切です。

純粋なニッケルは銀白色の金属で、非常に硬く、耐食性があり、延性があります。これらの顕著な特性のために、ニッケルは、主にコーティングおよび表面工学において多くのアプリケーションで使用されています。無電解ニッケルめっきは、ニッケル‐リン合金の層を工作物の表面にめっきするための自己触媒化学技術です。この方法は、めっきのために金属イオンと反応する還元剤（次亜リン酸ナトリウム）の含有量に依存します。 しかし、めっき浴の薬品の寿命は限られているので、薬品の消費を自動的に監視することが重要なプロセス制御要件となります。めっき浴を長時間使用すると、薬品中の電解質は反応生成物で過負荷になり、工作物の表面および層の特性に悪影響を及ぼします。 このプロセスアプリケーションノートは、ニッケル‐リン合金の均一な層を確実にめっきさせるために、無電解ニッケルめっき浴中の各種活性浴成分を定期的にモニタリングする手法を提案します。

ケミカル・メカニカル・ポリシャー«CMP»は、シリコンウェハ表面を滑らかにしたり研磨したりするために使用される主要な技術の1つです。一般的には、この工程では、脱イオン水、CMPスラリー(コロイド状シリコンやアルミナ液体分散体)、および過酸化水素(強酸化剤)を一定の濃度と比率で混合する工程です。過酸化水素は経時的に劣化するため、CMP工程を効率よく繰り返し行うためには、その濃度をオンラインで常時監視する必要があります。このように、CMPスラリーが常に規格内であることを確認し、必要に応じて混合物を調整することで、製品の歩留まりを抑制します。

Rapid inline monitoring of the major SC1/SC2 bath constituents is possible with reagent-free near-infrared spectroscopy, e.g., the 2060 The NIR-R Analyzer.