滴定/水分/イオンクロマトグラフィー/近赤外分析計/ラマン分光計/ポテンショスタット/ガルバノスタット/プロセス分析計
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- 410000059-Bラマン分光法による炭素材料のキャラクタリゼーション
ラマン分光法は、選択性、分析速度に優れ、また非破壊で分析できる能力のために、カーボンナノ材料のキャラクタリゼーションのための重要なツールです。炭素材料のラマンスペクトルは、一般的に単純なように見えますが、ピーク位置、形状、相対強度によって内部結晶構造を追求することができます。
- 8.000.6059Determination of hazardous substances in electrical and electronic equipment
The Restriction of Hazardous Substances (RoHS) Directive 2002/95/EC stipulates maximum limits for the hazardous metals cadmium, lead and mercury as well as the hexavalent chromium and the brominated flame retardants in electrical and electronic products. To ensure compliance, reliable analysis methods are required.This poster deals with the wet-chemical determination of trace concentrations of the six RoHS-restricted substances in a wide variety of materials including metals, electrotechnical components, plastics and wires. After sample preparation according to IEC 62321, the metals lead, cadmium and mercury are best determined by anodic stripping voltammetry (ASV) and the flame retardants PBB and PBDE are quantified by direct-injection ion chromatography (IC) using spectrophotometric detection. Chromium(VI) can be determined either by adsorptive stripping voltammetry (AdSV) or IC. Both methods are very sensitive and meet prescribed RoHS limits.
- 8.000.6073Determination of anions in concentrated nitric acid by ion chromatography: the influence of temperature on column selectivity
Determination of chloride and sulfate in the presence of high nitrate concentrations. Optimization of the chromatographic separation by variation of the temperature and eluent composition.
- AB-046Potentiometric determination of cyanide
The determination of cyanide is very important not only in electroplating baths and when decontaminating wastewater but, due to its high toxicity, also in water samples in general. Concentrations of 0.05 mg/L CN- can already be lethal for fish.This Bulletin describes the determination of cyanide in samples of different concentrations by potentiometric titration.Chemical reactions:2 CN- + Ag+ → [Ag(CN)2]-[Ag(CN)2]- + Ag+ → 2 AgCN
- AB-077カール・フィッシャーによる容量水分測定 - カール フィッシャー容量滴定のヒントとコツ
このApplication Bulletinでは、カール・フィッシャーによる容量水分測定の概要をご覧いただけます。その他に、電極、サンプル、および水標準液の取り扱いについて説明しています。ここで説明される手順およびパラメータはASTM E203に準ずるものです。
- AB-082イオン選択性電極を用いたフッ化物の測定
本文では、フッ素イオン選択性電極 (F-ISE) を用いた、様々なマトリックス内のフッ化物の測定について説明します。F-ISE はフッ化ランタン単結晶で作られており、幅広いフッ素濃度範囲においてネルンスト効果を示します。本文の第一部には、電極の操作法や手入れに関して、および実際のフッ素測定における注記が記載されています。第二部では、食塩、歯磨き粉、洗口液における、標準添加技術によるフッ化物の直接的な測定について説明しています。
- AB-102Conductometry
This bulletin contains two parts. The first part gives a short theoretical overview while more details are offered in the Metrohm Monograph Conductometry. The second, practice-oriented part deals with the following subjects:Conductivity measurements in general; Determination of the cell constant; Determination of the temperature coefficient; Conductivity measurement in water samples; TDS – Total Dissolved Solids; Conductometric titrations;
- AB-137カール・フィッシャーによる電量法水分測定
このApplication Bulletinでは、カール・フィッシャーによる電量法水分測定の概要をご覧いただけます。その他に、電極、サンプル、および水標準液の取り扱いについて説明しています。ここで説明される手順およびパラメータはASTM E1064に準ずるものです。
- AB-147Simultaneous trace determination of seven metals in «electronic grade» materials using stripping voltammetry
The metals Cd, Co, Cu, Fe, Ni, Pb, and Zn are determined in the sub-ppb range (limit of detection 0.05 µg/L) by means of stripping voltammetry. The DP-ASV method is used for Cd, Cu, Pb, and Zn whereas Co, Ni, and Fe are determined by means of the DP-CSV method (dimethylglyoxime or catechol complexes).Use of the VA Processor and the sample changer allows automatic determination of the above metal ions in one solution. The method has been specially developed for trace analysis in the manufacture of semiconductor chips based on silicon. It can naturally also be employed successfully in environmental analysis.
- AB-178完全自動の水質分析
電気伝導度、pH値、p値およびm値 (アルカリ度)、塩化物含有量、カルシウムおよびマグネシウム硬度、総硬度、ならびにフッ化物含有量などといったか物理的および化学的パラメータの測定は、水質評価において必要不可欠です。この bulletin では、上記のパラメータを、一度の分析実行でいかに測定できるかが説明されています。水質分析においてさらに重要なパラメータは、過マンガン酸塩指数 (PMI) および化学的酸素要求量 (COD) です。そのため、この Bulletin では、EN ISO 8467に準じたPMIの完全自動測定、ならびにDIN 38409-44に準じたCODの測定についても説明しています。
- AB-188pH measurement technique
This Bulletin, using practical examples, indicates how the user can achieve optimum pH measurements. As this Bulletin is intended for actual practice, the fundamentals - which can be found in numerous books and publications - are treated only briefly.
- AB-195Titrimetric determination of free boric acid and tetrafluoroboric acid in nickel plating baths
This Bulletin describes the simultaneous potentiometric titration of free boric acid and free tetrafluoroboric acid in nickel plating baths. After addition of mannitol, the formed mannitol complexes are titrated with sodium hydroxide solution. The determination is carried out directly in the plating bath sample; nickel and other metal ions do not interfere.
- AB-231DIN 38406-16に則したアノードおよび吸着ストリッピングボルタンメトリーによる、水サンプルに含まれる亜鉛、カドミウム、鉛、銅、タリウム、ニッケル、およびコバルトの測定
DIN 38406 Part 16 を条件とした標準メソッドでは、飲料水、地下水、地表水、および降水 (雨水など) に含まれるZn、Cd、Pb、Cu、Tl、Ni、およびCoの測定について説明しています。水サンプル中に含まれる有機物質は電圧電流法による測定に強い干渉を与え得るため、過酸化水素を用いたUV分解による前処理が必要となります。この分解により、ブランク値の導入なしですべての有機物質を確実に除去することができます。これらのメソッドはもちろん、例えばシリコンベースの半導体チップの製造における微量分析など、他の物質の微量分析にも応用することができます。Zn、Cd、Pb、Cu、およびTlはアノードストリッピングボルタンメトリー (ASV) を用いてHMDEで測定され、NiおよびCoは吸着ストリッピングボルタンメトリー (AdSV) を用いて測定されます。
- AB-344Automated analysis of etch acid mixtures using the 859 Titrotherm and the 814 USB Sample Processor
This bulletin deals with the automated determination of mixtures of HNO3, HF and H2SiF6 in the range of approximately 200-600 g/L HNO3, 50-160 g/L HF, and 0-185 g/L H2SiF6 using thermometric titration.Etch acid mixtures containing HNO3, HF and H2SiF6 from the etching of silicon substrates can be analyzed in a sequence of two determinations using the 859 Titrotherm. The first determination involves a direct titration with standard c(NaOH) = 2 mol/L, followed by a back titration with c(HCl) = 2 mol/L. This determination yields the H2SiF6 content plus a value for the combined (HNO3+HF) contents. The second determination consists of a titration with c(Al3+) = 0.5 mol/L to determine the HF content. For freshly made up mixtures of HNO3 and HF containing no H2SiF6, a linked two-titration sequence is employed. Results from the two determinations are used by tiamoTM to yield individual results for HNO3, HF and H2SiF6.
- AN-C-149Determination of ions on surfaces of printed circuit boards
Cleanliness is indispensable in electronics production. Ionic contaminations in particular lead to a drastic worsening of the quality of the printed circuit boards. The present Application Note describes the determination of cations on printed circuit board surfaces. The intelligent Partial Loop Injection Technique (MiPT) used for this purpose permits the determination of cations and anions in the same sample. The determination of the anions is described in AN-S-317.
- AN-C-159マトリックス除去を伴うインライン濃縮後のカラム Metrosep C 4 - 250/2.0における微量の陽イオン
インラインマトリックス除去を伴うインテリジェントなインライン濃縮(MiPCT-ME)は、亜鉛やジエチルアミンなどといった6つの基本陽イオンの微量測定に使用されます。Metrosep C 4 - 250/2.0 のマイクロボアカラムでは、24分で分析が完了します。回収率は95%を超えます。ソフトウェア MagIC Net によって算出される検出限界は、濃縮量が4mLの場合、より低いng/Lレベルにまで及びます。
- AN-C-162流量グラジェントを用いた現像液中の陽イオン成分
この Application Note では、現像液中のN, Nジエチルヒドロキシルアミン(DEHA)、トリイソプロパノールアミン(TIPA)、陽イオンのカラー現像液成分(Color-Developing component、CDC)の測定について説明しています。分析はMetrosep C - 250/4.0の大容量のカラムにおいて行われ、続いて直接電気伝導度検出が行われます。カラムに強力に遅滞する発色現像液の滞留時間を短縮するため、カラム流量はアミンの溶出後、増大されます。
- AN-CIC-011燃焼法イオンクロマトグラフィシステムによるイオン交換体の分析
製薬産業または半導体産業のための超純水の生産には高品質なイオン交換体が必要です。陰イオン交換体物質の純度の検査には、燃焼法イオンクロマトグラフィシステムは不可欠なツールです。
- AN-CIC-015燃焼法イオンクロマトグラフィシステムによるハロゲンを含まないプリント基板の基礎資材試験
電気装置および電子装置における特定有害物質の使用制限についてのEU指令およびIEC 61249-2-21では、電子機器で用いられる材料に含まれるハロゲンの制限値が定められています。プリント基板に使われる資材中のハロゲン測定は、IEC 61189-2に準拠した燃焼法イオンクロマトグラフィシステムにより、正確かつ迅速に自動化しておこなえます。
- AN-CS-01230% 過酸化水素 (H2O2) におけるトリメチルアミンおよび標準陽イオンの測定
過酸化水素は、その用途に応じて様々な純度で用いられます。高純度のH2O2 (電子工業用) では、たとえばトリメチルアミン (TMA) は1 μg/L未満など、非常に低い汚染レベルが求められます。この技術資料では、高濃度のH2O2溶液 (30%) におけるトリメチルアミンの測定について説明しています。分析は、連続陽イオンサプレッション後に電気伝導度検出器を備えたイオンクロマトグラフにマトリックス自動除去 (MiPCT-ME) とインライン自動予備濃縮を用いて測定しています。
- AN-CS-013脱イオン水中の陽イオンの測定と、MiPCT の LOD および MDL の計算
高純度の水 (サブμg/L 未満の範囲) における陽イオンの微量分析には、連続サプレッションを備えた陽イオンクロマトグラフィーと、自動予備濃縮テクニック (MiPCT) が必要となります。脱イオン水 (DI) 中の微量陽イオンが測定され、メソッド検出限界 (US EPA に準じた MDL) および検出限界 (LOD = 3 x S/N) が計算されます。MDL および LOD は、6 mL の予備濃縮容量を使用した設定で最も低いng/L範囲で非常に類似しています。
- AN-CS-018Metrosep C Supp 2 - 250/4.0: ドーズイングラジェントを用いた廃水中の陽イオン
ICによる廃水中の陽イオン分析は、実証済みのメソッドです。制約要因は一般にNa/NH4の分離です。高濃度のナトリウムにより、ピークの重複が原因でアンモニアの測定が不可能となる可能性があります。連続サプレッションおよびドーズイングラジェントを用いることで、Na/NH4分離を改善し、低濃度アンモニウムの測定を可能にします。
- AN-CS-019連続サプレッションを用いた30%の過酸化水素中の微量アンモニウムおよびトリメチルアミン
過酸化水素中の微量レベルの陽イオンおよびアミンの測定は、グレードの高い半導体用化学薬品の品質測定において重要です。特に、過酸化水素サンプル中で1 ppbまたはそれ未満のトリメチルアミンを要求するメーカーもあります。連続陽イオンサプレッション後に電気伝導度検出を伴うMiPCT-ME*に後続するイオンクロマトグラフィーが適用されます。
- AN-EC-002参照電極とその用法
電気化学電池では付加電位または測定電位が参照されるのに対し、参照電極は安定かつ適切に定義された電気化学的ポテンシャル (一定の温度において) を有します。そのため、良い参照電極は安定しており、非分極性です。言い換えると、このような電極の電位は使用される環境において、また低い電流通過においても安定性を維持します。このApplication Noteでは、もっともよく使用されている参照電極が、その使用範囲と共にリストアップされています。
- AN-EC-011Autolab 回転リングディスク電極 (RRDE) を用いた銅の電着における中間体についての調査
銅はほぼ間違いなく、特に半導体産業において科学技術的に最も関連性のある金属の1つでしょう。この産業で用いられる蒸着プロセスは、デュアルダマシンプロセスとして知られ、それは添加物が存在する上で、酸性の第二銅化合物からの銅の電着に作用します。このApplication Noteでは、銅の電着についての調査と、Cu+中間体検出のための Autolab 回転リングディスク電極 (RRDE) の使用について説明されています。
- AN-EC-013低インピーダンスシステムでの EIS 測定に四端子測定法を用いることの重要性
このApplication Noteでは、二方向に接続された商業用バッテリーの試験のために電気化学インピーダンス分光法 (EIS) が用いられています。最初の EIS 測定では、バッテリーは二端子測定のコンフィグレーションに接続されています。2つ目の EIS 測定では、バッテリーは四端子測定 (ケルビン接続) のコンフィグレーションに接続されています。リード線の接続方法の違いにより、バッテリーに対して測定されたインピーダンス値が異なるという結果が生じます。
- AN-EC-015水サンプル中の重金属イオン検出のための Metrohm 663 VA stand
溶液中の重金属イオンの測定は、最も成功を収めた電気化学のアプリケーションの1つです。この Application Note では、水道水のサンプル中の2つの検体の存在を測定するのにアノーディックストリッピングボルタンメトリーが用いられています。
- AN-EC-017Microcell HCセットアップと共に実施されるサイクリックボルタンメトリーならびに電気化学インピーダンス分光法による測定 - TSC SW Closed ならびに TSC Battery セル
TSC SW Closed および TSC Battery セルは、バッテリーに使われる材料のような空気や湿気に敏感な材料の測定のために開発されたコンパクトなシステムです。この文書では、2種のテスト手順について説明されています。1つ目の手順は停電に定電位サイクリックボルタンメトリー (CV) によるものであり、2つ目は電気化学的インピーダンス分光法 (EIS) によるものです。
- AN-EC-026Comparison between linear and staircase cyclic voltammetry on a commercial capacitor
Capacitors are electronic components necessary for the success of the electronics industry. They have also become essential components of both electric and hybrid vehicles. Electrochemical tests, such as potentiostatic cyclic voltammetry, are used to check the performance of capacitors. VIONIC powered by INTELLO can perform both staircase and linear cyclic voltammetries (CV). This Application Note gives a comparison between the linear and the staircase potentiostatic cyclic voltammetries and highlights the necessity of using the linear CV to best study the performance of capacitors.
- AN-EC-028Measuring hydrogen permeation according to ASTM G148
In this Application Note, hydrogen permeation experiments are conducted following the procedure described in the ASTM standard G148.
- AN-EC-032ASTM G148に準拠した単一機器による水素透過試験
The Devanathan-Stachurski cel(または「Hセル」)は、シートや膜を通過する水素の透過性を評価するために広く使用されています。シートや膜を通過する水素の量は非常に少ないため、その検出には高感度なポテンショスタットが必要となります。本アプリケーションノートでは、さまざまな鉄シートの水素透過特性を、装置の要件を考慮しながら検討しています。
- AN-EIS-001電気化学インピーダンス分光法 (EIS) その1 - 基本的原理
電気化学インピーダンス分光法 (EIS) は、電気化学的システムの特性解析のための強力な技術です。近年、EISは材料の特性解析の分野において広範囲に及ぶ用途を見出してきました。これは日常的に、コーティング、バッテリー、燃料電池、および腐食現象の特性解析に用いられます。このApplication Noteでは、EIS測定の原理についてご覧いただけます。
- AN-EIS-002電気化学インピーダンス分光法 (EIS) その2 - 実験準備
このApplication Noteでは、電気化学電池における様々な接続のタイプや装置のセッティングなど、EISを実施するための準備について説明されています。
- AN-EIS-003Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS) Part 3 – Data Analysis
Here, the most common circuit elements for EIS are introduced which may be assembled in different configurations to obtain equivalent circuits used for data analysis.
- AN-EIS-004Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS) Part 4 – Equivalent Circuit Models
Explore how to construct simple and complex equivalent circuit models for fitting EIS data in this Application Note. Nyquist plots are shown for each example.
- AN-EIS-005電気化学インピーダンス分光法 (EIS) その5 - パラメータ推定
等価回路モデルに関するApplication Note AN-EIS-004では、等価回路モデルの構築に用いられる様々な回路素子の概要が示されています。分析中のシステムに適したモデルが確認された後、データ分析における次のステップはモデルパラメータの推定です。これは、モデルのデータへの非線形回帰によって行われます。多くのインピーダンスシステムは、データフィッティングプログラムを伴います。このApplication Noteでは、データをフィットさせるのにNOVAを用いた方法が紹介されています。
- AN-EIS-006電気化学インピーダンス分光法 (EIS) その6 - EISにおける生の信号の測定
このApplication Noteでは、電気化学インピーダンス測定中の個々の周波数のための生のタイムドメインデータの記録の長所について説明されています。
- AN-EIS-007EISデータの当てはめ - 等価回路要素の良い開始値を得るための方法
電気化学インピーダンス分光法 (EIS) は、電極内部液インターフェースにおいて生じるプロセスに関する情報を提供する強力な技術です。EISによって集められたデータは、適正な電気等価回路でモデル化されます。当てはめ手順により、数学関数が実験データの一定の差の内に収まるまで、パラメータの値が変更されます。このApplication Noteでは、許容できる初期パラメータを獲得し、正確な当てはめを実施するためのいくつかの提案が述べられています。
- AN-EIS-009Mott-Schottky Analysis
This Application Note presents the Mott-Schottky measurement, an extension of electrochemical impedance spectroscopy (EIS), on a popular semiconducting material.
- AN-H-004Determination of fluoride by boric acid titration
Determination of fluoride in industrial solutions such as acid etching mixtures.
- AN-H-016Determination of acetic, phosphoric, and nitric acid mixtures
Determination of mixtures of phosphoric, nitric, and acetic acids used in etching aluminum in the manufacture of semiconductor devices.
- AN-H-017Determination of bromide and chloride in photographic developer solutions
Determination of bromide and chloride in photographic developer solutions.
- AN-H-087Determination of hydrofluoric acid by aluminum titration
Determination of hydrofluoric acid in mixed acid etchant solutions.
- AN-H-089Automated analysis of hexafluorosilicic acid
Automated determination of the H2SiF6 and HF contents of industrial grade hexafluorosilicic acid.
- AN-H-098シリコンエッチング溶液中のフッ化水素酸の測定
酸エッチング溶液には、エッチング速度が高いためフッ化水素酸 (HF) が含まれることがよくあります。 この技術資料では、電位差滴定装置で使用する通常のガラス電極では測定が難しい、シリコンエッチング溶液中のフッ化物の測定を温度滴定法でおこなっている例を紹介しています。
- AN-H-099Determination of potassium hydroxide and silica in alkaline etch solutions
Determination of concentrated potassium hydroxide solutions which had been used for the etching of substrates containing silicon.
- AN-H-100Determination of total acids in highly acidic etch solutions
Determination of the total acids concentration in mixtures of nitric-hydrofluoric acid intended for etching silicon substrates.
- AN-H-114Determination of sulfuric acid, nitric acid, and hydrofluoric acid in etch solutions
Two separate titration sequences are required to analyze the mixture:- titration of the HF content with Al(NO3)3 (the «elpasolite» reaction)- titration of the H2SO4 with BaCl2 followed by titration with NaOH to determine the «total acids» contentThe HF, H2SO4, and «total acids» contents are converted to a HNO3 equivalent, with the HNO3 content found by subtracting the HF and H2SO4 from the «total acids» content.
- AN-H-134Determination of sulfuric acid and phosphoric acid in etching baths using thermometric titration
Thermometric titration can be used for the ready determination of sulfuric acid and phosphoric acid in acid mixtures. An endpoint for each acid appears on the titration curve that can be used to quantify the respective acid.
- AN-H-135Determination of hydrochloric acid and phosphoric acid in etching baths using thermometric titration
Thermometric titration is used for the determination of hydrochloric acid and phosphoric acid in acid mixtures. Two endpoints appear on the titration curve that are used for the determination of the two acids.