应用报告
- AB-039通过电位滴定法测定硝化酸
介绍以环己胺作为滴定剂在非水溶剂中测定硝化酸的电位滴定法。可对硫酸和硝酸进行定量分析。
- AN-H-038硝酸盐混合物中硫酸盐和总酸的测定
硝酸盐混合物中硫酸盐和总酸的测定
- AN-H-087使用铝滴定来测定氢氟酸
测定混酸蚀刻液中的氢氟酸。
- AN-H-089自动分析六氟硅酸
自动测定工业级六氟硅酸中的 H 2SiF 6 和 HF 含量。
- AN-H-098测定硅蚀刻液中的氢氟酸
本应用简报绍了用温度滴定法测定硅蚀刻溶液中氟化物的方法。
- AN-H-109测定酸混合物中的硫酸、氢氟酸和氟化氢铵
从三个独立的单个终点所得出的结果可用来计算结果。H 2SO 4、HF 和 NH 4F/HF 的混合物含有 H +(来自 H 2SO 4、HF 和 NH 4F/HF),SO 42-(来自 H 2SO 4)和 F -(来自 HF 和 NH 4F/HF)。通过 NaOH 滴定来分析总 H +(«总酸»),通过 Al(NO 3) 3(«总氟»)来滴定 F -,并通过 BaCl 2 来滴定 SO 42-,可提供用于测定混合物组分所需的信息。
- AN-H-114测定蚀刻液中的硫酸、硝酸、氢氟酸
需要两次独立的滴定序列来分析该混合液:- 使用 Al(NO 3) 3(«elpasolite» 冰晶石反应)来滴定 HF 成分 - 使用 BaCl 2 来滴定 H 2SO 4,之后使用 NaOH 进行滴定以便确定 «total acids» 总酸含量HF、H 2SO 4 和 «total acids» 总酸含量可转换为 HNO 3 当量,可从 «total acids» 含量中减去 HF 和 H 2SO 4,从而得到 HNO 3 含量。
- AN-H-115测定酸性清洗液中的氢氟酸、氟化铵和马来酸
使用 2 mol/L NaOH 进行直接温度滴定(TET)可用来测定酸性清洁剂中的 HF、NH 4F 和马来酸(C 4H 4O 4)含量。可获得三个终点(EP),详情如下:EP1:C 4H 4O 4 (pKa1 = 1.9),HF (pKa = 3.17) EP2:C 4H 4O 4 (pKa2 = 6.07) EP2:NH 4F (pKa = 8.2)HF 含量由减去 EP1 后的差值(EP2-EP1)确定。
- AN-H-118含铁和铝的酸性溶液中盐酸的测定
水合离子 [Fe(H2O)6]3+ 的存在会干扰 “游离酸 ”的测定,因为该离子的 pKa 值很低(约 2.2)。金属离子(如铁、铜和铝)可被氟化物有效掩蔽,从而可以通过热计碱式滴定法准确、准确地测定酸含量。
- AN-H-136在蚀刻浴中通过 TET 温度滴定法测定盐酸和硝酸
盐酸和硝酸可在酸洗池中通过 TET 温度滴定法进行测定。在第一次滴定中将使用氢氧化钠滴定总酸含量;在第二次滴定中通过硝酸盐溶液滴定来测定盐酸含量。
- AN-NIR-090混合酸的质量控制
混合酸的质量控制 - 快速靠谱地检测磷酸、硫酸、硝酸和氢氟酸
- AN-NIR-091混合酸的质量控制
混合酸的质量控制 - 快速可靠地检测醋酸、氢氟酸和硝酸
- AN-PAN-1018阳极氧化液中酸、碱和铝的在线分析
阳极氧化可提高金属表面的抗腐蚀性和耐磨性。使用 2060 TI 过程分析仪或 2026 HD 滴定仪可对蚀刻槽进行精确的在线监测。
- AN-PAN-1055监测标准清洗槽的质量参数
使用无试剂近红外光谱仪(如 2060 近红外光谱仪)可在线快速监测 SC1/SC2 清洗液的主要成分。
- AN-PAN-1062利用拉曼光谱对硫酸和过氧化氢进行在线监测
蚀刻是半导体制造中的一个重要过程,涉及从晶片基板上化学去除层。必须采取严格的质量控制措施来确定混合酸溶液(如 SPM、DSP 或 DSP+)中的酸蚀刻剂浓度,这对于优化多个晶片蚀刻步骤中的蚀刻速率、选择性和均匀性至关重要。本应用介绍了使用 瑞士万通过程分析公司 的 PTRam Analyzer 拉曼光谱同时测量蚀刻槽中硫酸和过氧化氢的方法。
- AN-RS-012使用手持式拉曼鉴别强酸
泼酸在历史上曾是一种用来惩罚妇女的方法,在现代已变成了一种性质不同的威胁。浓酸和其他腐蚀物质已成为现代社会暴力工具。攻击者使用普通塑料容器,例如柠檬汁挤瓶,容器带有能够产生强力定向喷射的开孔。由于硫酸和磷酸具有强烈的腐蚀性,此处分析选用了这两种酸 - 伦敦发生的酸攻击事件中最常使用的是硫酸、磷酸和硝酸。2017 年,英国发生了很多次酸攻击,据报道此类事件平均每天发生 2 次。因此,对酸进行检测和管控可能有助于防止这种社会灾难的发生。
- AN-S-0112% 的氢氟酸中的磷酸根和四氟硼酸根
采用化学抑制后电导检测的阴离子色谱法测定2% HF中的磷酸根和四氟硼酸根。
- AN-S-392化学溶液中除肼和其他阴离子以外的氨基磺酸
氨基磺酸是一种相当强的酸,用于作为除垢剂及清洁乳制品和酿造设备。在这里,对化学溶液中的氨基磺酸盐、氯化物、亚硝酸盐、硝酸盐和硫酸盐进行了分析。由于溶液中也可能含有肼,因此需要与所需的离子充分分离。
- AN-T-102用 TRIS 对盐酸进行标准化
滴定剂通常即买即用。但是,有需要定期使用一级标准来确定滴定溶液的准确浓度。为了纠正上述变化,需要使用所谓的 “滴定系数”。使用瑞士万通品牌的自动电位滴定仪可以方便快捷地评估滴定度。瑞士万通的电位滴定仪或软件分别采用预定义的计算公式,并自动存储滴定系数,使标准化工作变得简单。
- AN-T-203挥发性溶剂和化学中间体中的酸度
挥发性溶剂中存在酸性成分可能是由于污染、储存、分销或生产过程中的分解造成的。溶剂中酸性成分的增加会导致各种问题,如储存稳定性降低或化学腐蚀。使用 Optrode 指示器,以氢氧化钠为滴定剂,酚酞为指示剂,通过光度滴定法测定酸度。如果挥发性溶剂可溶于水,则将其溶解在去离子水中;如果不可溶于水,则将其溶解在不含二氧化碳的乙醇中。
- AN-T-223电镀槽分析
电镀工艺用于多个不同的工业领域,以保护各种产品的表面质量,防止腐蚀或磨损,并显著提高其使用寿命。定期检查电镀液成分以确保工艺正常运行至关重要。 典型的电镀槽包括碱性脱脂槽或含有铜、镍或铬等金属或氯化物和氰化物等成分的酸性或碱性槽。选择的分析技术必须符合此类分析的高安全标准,并能得出可靠的结果,这一点至关重要。 OMNIS 样品机器人系统可在不同的工作站上自动移取和分析侵蚀性电镀液样品,从而提高了实验室的安全性。与手动滴定相比,该系统可提供更可靠的结果,而且由于可同时分析不同的参数,因此更节省时间。
- AN-T-234OMNIS奥秘一代和Titrando电位滴定仪对混合酸和TMAH的直接比较
本应用说明比较了OMNIS奥秘一代自动电位滴定仪和888 Titrando电位滴定仪在铝蚀刻槽中的硝酸、磷酸和醋酸的测定,以及四甲基氢氧化铵(TMAH)的测定。使用了相同的分析参数,表明OMNIS奥秘一代电位滴定仪的结果与其他成熟的滴定系统相当,甚至更好。
- AN-T-236氢氧化钠法测定盐酸
盐酸是一种强无机矿酸,在化学工业中具有重要意义。盐酸与氢氧化钠的电位滴定是实验室中非常重要也是非常常见的分析之一。本应用说明介绍了一种酸碱滴定法,使用带有集成 Pt1000 温度传感器的 pH 电极,用 NaOH 测定盐酸的浓度,以获得非常准确的结果。
- AN-T-237用氢氧化钠测定磷酸
磷酸是一种三价无机酸,有多种用途:用作生产磷肥的原料、洗涤剂、磷酸燃料电池的电解液、除锈剂,以及用于铁和锌的钝化以防止腐蚀。本应用说明介绍了一种酸碱滴定法,通过用氢氧化钠滴定磷酸,测定磷酸所有三个可解离质子的浓度。
- WP-048利用在线化学分析,来优化环氧丙烷的生产
环氧丙烷(PO)是一种用于各种工业场合的工业品,主要用于生产多元醇(聚氨酯塑料积木)。它有多种生产方式,有的有副产品,有的则没有。本白皮书中列举了优化 PO 生产的工艺,通过使用在线流程分析,而不是实验室测试,使其能够更加安全和高效,产品质量更好,并显著的节约时间。
- WP-086用离子色谱质谱法测量有机酸和无机阴离子
本白皮书重点介绍用于直接鉴定和定量不同基质中有机酸和无机阴离子的特定 IC-MS 应用。