應用領域

氰化物的测定对于电镀浴（电镀）废水的解毒处理极为重要，而且由于其毒性较高，该项测定对于普通水样也同样重要。即使浓度只有 0.05 mg/L CN -，也会导致鱼类死亡。下面将介绍使用电位滴定法测定不同浓度样品中氰化物的过程。化学反应：2 CN - + Ag + → [Ag(CN) 2] -[Ag(CN) 2] - + Ag + → 2 AgCN

本应用简报概述了用卡尔费休库仑法测定体积含水量。除此之外，本 应用简报还描述了电极、样品和标准水样的处理方法。所描述的程序和参数符合 ASTM E203。（卡式水分仪）

本文将介绍采用离子选择性氟电极（F-ISE）测定不同基质中的氟。F-ISE 由氟化镧晶体组成，针对较大氟化物浓度范围可显示出能斯特行为。本文第一部分包含电极的操作和护理以及关于实际进行氟测定的相关提示。第二部分则介绍了采用标准加入技术在盐水、牙膏和漱口水中进行氟的直接测定。

本 Bulletin 有两部分组成。第一部分提供理论方面的概述，更多详细信息在万通专题论著“Conductometry”（电导测定）进行了描述。第二部分则为实用部分，涉及到下列主题：常规电导测量; 池常数测定; 温度系数测定; 水样品中的电导测量; TDS－Total Dissolved Solids（总溶解固体）; 电导滴定;

本应用简报 概述了用卡尔费休库仑法测定水分含量。除此之外，本 简报还描述了电极、样品和标准水样的处理方法。所描述的程序和参数符合 ASTM E1064。

用溶出伏安法测定浓度在 sub-ppb 范围的金属Cd，Co，Cu，Fe，Ni，Pb和Zn （检测限 0.05 µg/L）。 采用DP-ASV法测定Cd，Cu，Pb 和 Zn，而采用DP-CSV法测定Co，Ni和Fe（丁二酮肟或儿茶酚络合物）。使用 VA Processor 和样品转换器可对溶液中的上述金属离子进行自动测定。 该方法为基于硅的半导体芯片生产过程中的痕量分析而专门开发。 自然也可成功用于环境分析。

电导率、pH 值、p 和 m 值（碱度）、氯化物含量、钙镁硬度、总硬度、氟化物含量等物理和化学参数的测定是评估水质所必需的。本公告描述了如何在单次的分析运行中如何确定上述参数。水质分析的其它重要参数是高锰酸盐指数（PMI）和化学需氧量（COD）。因此，本公告中还介绍了根据 EN ISO 8467 全自动测定 PMI 以及根据 DIN 38409-44 测定 COD 的方法。

该应用报告指出必须考虑的一些要点，并给出一些应用实例，其目的是为了帮助用户最好地进行pH测试。 基础理论可参阅许多书籍和刊物，因此本应用报告集中于实际应用部分。

本应用报告说明了如何用电位滴定法同时测定镀镍槽液中的游离硼酸和游离四氟硼酸。 添加甘露醇之后，用氢氧化钠溶液滴定所形成的甘露醇络合物。 测定直接在电镀槽液样品中进行；镍及其它金属离子不会产生干扰。（电位滴定仪）

DIN 38406 第 16 部分所要求的标准方法，描述了如何测定饮用水、地下水、地表水及降水（例如雨水）中 Zn、Cd、Pb、Cu、TI、Ni 和 Co 。因为水样中有机物质的存在会强烈干扰伏安法，所以有必要利用过氧化氢进行 UV 消化预处理。该消化确保了消除所有的有机物质，而不会带来空白值。当然这种方法也可适用于其它材料的痕量分析，例如，在生产硅基半导体芯片时进行痕量分析。利用阳极溶出伏安法通过 HMDE（悬汞电极）对 Zn、CD、Pb、Cu 和 TI 进行测定，同时 Ni 和 Co 依靠吸附溶出伏安法（AdSV）来进行测定。